Có nhiều phương pháp tổng hợp gecman trong công nghiệp.[1] Các phương pháp này có thể phân loại thành:

Phương pháp khử hóa học là sự cho tiếp xúc của các hợp chất chứa gecmani như gecmani nguyên tố, tetraclorua gecmani, điôxít gecmani, gecmanua với các tác nhân khử như borohiđrua natri, borohiđrua kali, borohiđrua liti, hiđrua nhôm liti, hiđrua nhôm natri, hiđrua liti, hiđrua natri, hiđrua magiê. Phản ứng có thể thực hiện trong dung dịch lỏng hay trong dung môi hữu cơ.

Ở quy mô phòng thí nghiệm, gecman có thể điều chế bằng phản ứng của các hợp chất Ge(IV) với các tác nhân hiđrua. Phản ứng tổng hợp điển hình là của Na2GeO3 với borohiđrua natri.[2]

Phương pháp khử điện hóa là cho một hiệu điện thế giữa catôt bằng gecmani kim loại trong dung dịch chất điện phân và anôt bằng các kim loại như molypđen hay cadmi. Trong phương pháp này, các khí gecman và hiđrô sinh ra tại catôt trong khi anôt có phản ứng tạo ra các ôxít của molypđen hay cadmi.

Phương pháp tổng hợp bằng plasma là sự tấn công gecmani kim loại bằng các nguyên tử hiđrô (H) được sinh ra bằng cách dùng nguồn plasma cao tần để tạo ra gecman và digecman.